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镍铁合金镀镍光亮剂
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电镀镍的常见问题及解决方法

文章出处:网责任编辑:作者:人气:-发表时间:2015-05-12 14:21:00

 镀镍是目前电镀用到最多的一种镀种,因为用的广泛,所有常见的故障很多人都不会排除的,本期来讲讲电镀镍常见问题和排除方法,电镀镍它已从普通镀镍(暗镍)发展到全光亮镀镍,镀镍用的光亮剂也从无机光亮剂发展到第四代有机光亮剂。电镀行业现用的全光亮镀镍槽液基本上是瓦特型,其配方及工艺规范除浓缩型光亮剂外,基本上大同小异。镀镍出现故障时,应检查工艺执行情况,分析故障出现的原因,将其解决。

2故障产生原因及排除方法
2.1工艺失衡
2.1.1 镀层光亮度不足
2.1.1.1 产生原因
(1)光亮剂太少,主盐含量太低,阳极板太短太少,镍离子的沉积速度与迁移速度达不到平衡,致使镀层光亮度不足。
(2)pH和温度太高。此时主盐易水解成Ni(OH)2沉淀,部分Ni(OH)2夹杂在镀层中,造成镀层光亮度不足。
(3)酸性镀铜后,零件未洗净。此时零件表面(铜层)上有一层碱性膜,镍沉积在膜层上,致使镀层达不到镜面光亮。
2.1.1.2排除方法
(1)补充主光亮剂,相应地也需补充助光剂。按工艺要求调整主盐及其它组成,增加阳极镍板。
(2)用稀硫酸调节pH,降低温度至工艺规范。
(3)酸性镀铜后应彻底洗净零件,必要时可用稀硫酸除膜。
2.1.2 镀镍层呈橘皮状
2.1.2.1 产生原因
镀液pH太高,润湿剂过量时,润湿剂易与Ni2+作用,生成不溶性的化合物,杂乱地吸附(或沉淀)在零件表面上,造成镀层厚薄不均。
2.1.2.2 排除方法
加入少量活性炭吸附掉部分润湿剂,过滤后再用稀硫酸调节pH至工艺规范。
2.1.3 镍层易烧焦
2.1.3.1 产生原因
镀液中主盐太少,温度太低,pH过高,电流密度太大。镍沉积的过程中,失去Ni2+的量与迁移到阴极附近的Ni2+量需达到动态平衡。但是,由于主盐太少,温度太低,很低浓度的Ni2+在低温条件下只能缓慢地迁移到阴极附近放电沉积。同时,pH太高使本来就很稀少的Ni2+还有部分生成微溶于水的浅绿色Ni(OH)2沉淀,造成镀液中Ni2+更少。在大电流密度作用下,阴极附近的正负离子达不到平衡,致使镀层烧焦。
2.1.3.2 排除方法
按分析报告补充主盐,提高镀液温度,用稀硫酸调节pH至工艺规范,过滤镀液,适当调整电流密度。
2.1.4 镀层起皮,起泡
2.1.4.1 产生原因
(1)镀液内有Zn2+和N03-杂质存在,不但使镀层出现黑色条纹等现象,还会使镀层内应力增大,造成镍层脆裂,最终呈粉末状脱落。
(2)糖精是助光剂中的主要成分。自配助光剂时,糖精加入太多,会造成镍层内应力增大,致使镍层起皮、脱落。
(3)镀前处理不良。零件表面上有残留的氧化皮等杂物,造成镍层起皮、起泡。
2.1.4.2 排除方法
(1)除Zn2+时,可用瓦楞铁皮作阴极,在搅拌条件下以0.2~0.4A/dm2电解处理,直至除净为止;除N03-时,先将pH调至l~2,然后用大面积的阳极、小面积的阴极,以大于l.4~dm2的电流密度电解1~2 h后,再降至0.2A/dm2继续电解,直至镀层正常。
(2)糖精太多时,用水稀释镀液即可,同时补充相应量的主盐、硼酸及主光亮剂。也可先用2~3 mL/L.H202(W=30%)分解糖精及其它光亮剂,再在搅拌条件下将镀液加温至60~80℃除去多余的H202,然后加2~3g/L电镀级的活性炭,搅拌0.5 h后,静置2—3 h,过滤,按分析报告补充NiS04、H3B03,并调节pH,最后按新配槽的要求分别加入主、助光剂。
(3)加强零件的前处理工作,严禁零件表面残留氧化皮及油污。
2.I.5 镍层上有针孔、麻点
2.1.5.1 产生原因
(1)润湿剂太少。电极作用所产生的氢气泡易停留在阴极表面,Ni2+在氢气泡周围不断地放电沉积,镍层逐步增厚:当镍层厚到氢气泡无法承受时,气泡就自动破裂,未沉积镍层的气泡部位,就出现凹坑,即针孔或麻点。
(2)泵内有空气。非连续性过滤的镀槽,过滤器上的泵是移动使用的,泵内总会含有一定量的空气,当使用过滤器时,泵内残留的空气又未除尽,这些空气随泵的工作而进入镀层成为气泡,造成与润湿剂太少而产生的相同故障。
(3)镀层内有动物胶、油污等有机杂质,这些无导电能力的有机杂质会粘附在零件表面,Ni2+无法在其上放电沉积;未粘附有机杂质的地方,镀层继续沉积增厚。如此一来,便形成凹坑式的针孔或麻点。
(4)用湿润剂调节镀液后,镀层仍有麻点出现,这时就要考虑是否Fe3+含量太多。Fe3+在镀液中成胶体状,很难过滤除去,当它附着在零件表面时,镀层就出现麻点。
2.1.5.2 排除方法
(1)以赫尔槽试验数据作为补充润湿剂的依据。也可用直径90~100 mm带手柄的铅丝圈从镀液中轻轻地平行提起,圈内液膜完整不破时,润湿剂含量为正常。润湿剂太少,圈内无液膜形成;太多则液膜不易消失。
(2)镀液过滤之前,应用滤液或去离子水除去泵内空气。
(3)除有机杂质时,先用2~3 mL/L的H202氧化液内的有机杂质;然后在搅拌条件下将2~3g/L的粉状活性炭加入液内,并加温至60~70℃,继续搅拌0.5 h,静置3,4 h或过夜:最后过滤,试镀。
(4)除Fe3+杂质。将镀液加温至60~70℃,然后加入已用热水溶解好的0.5—1.0g/L的硫酸铅,搅拌1 h:再加入2—5g/L的活性炭,继续搅拌1 h;调节pH至6,静置4 h或过夜;过滤,然后小电流电解0.5 h;最后补充光亮剂,试镀。
2.1.6 镀层粗糙,毛刺
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